多弧離子真空鍍膜機有哪些特點？

發布時間：2021-01-19

多弧離子真空鍍膜機的電弧蒸發源原理是通過一個冷陰極自持電弧放電，是一種場致發射。蒸發源的典型的基本配置為：受鍍基材與陰極相接，陽極接真空室，待真空室抽到到高些的真空狀態、觸發電極啟動器接觸打開，形成一個穩定的電弧放電于陽極和陰極之間。而在陰極的表面覆蓋有很多快速移動的陰極斑，斑直徑在1μm到兩微米之間，還有直徑約10μm的光斑，有每秒移動幾十米的速度，電流之間密度為10 A/cm-10 A/cm，極間電壓也降低到20V-40V之間。所謂多弧離子真空鍍膜機就是用多個電弧蒸發源為核心的一種離子鍍膜設備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝，它具備的特點有：機械整體簡單、設備生產效率高、工作周期短、適合大批量的工業化生產。較大的鍍膜空間。 電弧蒸發源為固態，可靈活放置，所以工件在裝卡更換時更加簡單，無需附加加熱器使用。

相較于傳統的蒸發源，多弧離子鍍膜機的電弧蒸發源的特點明顯：鍍膜膜層致密度高，膜層壽命長、強度高；作為固體型的電弧蒸發源，可改變其形狀、大小及位置。

多弧離子真空鍍膜機廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，高爾夫球具、鐘表、衛浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領域，深受人們喜歡和市場歡迎。多弧離子真空鍍膜機的核心技術是它的電弧蒸發源，多弧離子鍍膜機的蒸發源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸發、自電離式的一種固體型蒸發源。多弧離子真空鍍膜機是一種高效、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。

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